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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨

  • 產(chǎn)品型號:
  • 產(chǎn)品廠商:JOONGWON
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 折扣價(jià)格:0
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簡單介紹:
臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨
詳情介紹:
輸出特性與轉(zhuǎn)移特性:任何指針式萬用表皆可用于檢測IGBT。注意判斷IGBT 好壞時(shí),一定要將萬用 表撥在R×10KΩ擋,因R×1KΩ擋以下各檔萬用表內(nèi)部電池電壓太低,檢測好壞時(shí)不能使IGBT 導(dǎo)通,而無法判斷IGBT 的好壞。此同樣也可以用于檢測功率場效應(yīng)晶體管(P-MOSFET)的好壞。檢測注意事項(xiàng)3、NPT-IGBT臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨FZ800R12KF4_S1FZ800R12KF4_S1臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨
左邊所示為一個(gè)N溝道增強(qiáng)型絕緣柵雙極晶體管結(jié)構(gòu), N+區(qū)稱為源區(qū),附于其上的電極稱為源極(即發(fā)射極E)。N基極稱為漏區(qū)。器件的控制區(qū)為柵區(qū),附于其上的電極稱為柵極(即門極G)。溝道在柵區(qū)邊界形成。在C、E兩極之間的P型區(qū)(包括P+和P-區(qū))(溝道在該區(qū)域形成),稱為亞溝道區(qū)(Subchannel region)。而在漏區(qū)另一側(cè)的P+區(qū)稱為漏注入?yún)^(qū)(Drain injector),它是IGBT特有的功能區(qū),與漏區(qū)和亞溝道區(qū)一起形成PNP雙極晶體管,起發(fā)射極的作用,向漏極注入空穴,進(jìn)行導(dǎo)電調(diào)制,以器件的通態(tài)電壓。附于漏注入?yún)^(qū)上的電極稱為漏極(即集電極C)IGBT的伏安特性是指以柵極電壓VGE為參變量時(shí),集電極電流IC與集電極電壓VCE之間的關(guān)系曲線。IGBT的伏安特性與BJT的輸出特性相似,也可分為飽和區(qū)I、放大區(qū)II和擊穿區(qū)III三部分。IGBT作為開關(guān)器件穩(wěn)態(tài)時(shí)主要工作在飽和導(dǎo)通區(qū)。IGBT的轉(zhuǎn)移特性是指集電極輸出電流IC與柵極電壓之間的關(guān)系曲線。它與MOSFET的轉(zhuǎn)移特性相同,當(dāng)柵極電壓VGE小于開啟電壓VGE(th)時(shí),IGBT處于關(guān)斷狀態(tài)。在IGBT導(dǎo)通后的大部分集電極電流范圍內(nèi),IC與VGE呈線性關(guān)系。6、IGBT/FRD臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨FZ800R12KF4_S1FZ800R12KF4_S1。
IGBT的開關(guān)作用是通過加正向柵極電壓形成溝道,給PNP(原來為NPN)晶體管提供基極電流,使IGBT導(dǎo)通。反之,加反向門極電壓溝道,切斷基極電流,使IGBT關(guān)斷。IGBT的驅(qū)動和MOSFET基本相同,只需控制輸入極N-溝道MOSFET,所以具有高輸入阻抗特性。當(dāng)MOSFET的溝道形成后,從P+基極注入到N-層的空穴(少子),對N-層進(jìn)行電導(dǎo)調(diào)制,減小N-層的電阻,使IGBT在高電壓時(shí),也具有低的通態(tài)電壓特點(diǎn):擊穿電壓可達(dá)1200V,集電極大飽和電流已超過1500A。由IGBT作為逆變器件的變頻器的容量達(dá)250kVA以上,工作可達(dá)20kHz。IGBT(絕緣柵雙極晶體管)作為新型電力半導(dǎo)體場控自關(guān)斷器件,集功率MOSFET的高速性能與雙極件的低電阻于一體,具有輸進(jìn)阻抗高,電壓控制功耗低,控制電路簡單,耐高壓,承受電流大等特性,在各種電力變換中極廣泛的應(yīng)用。與此同時(shí),各大半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商不斷IGBT的高耐壓、大電流、高速、低飽和壓降、高可靠、低本錢技術(shù),主要采用1um以下制作工藝,研制取得一些新進(jìn)展。 [3] NPT(非穿通型)--IGBT采用薄硅片技術(shù),以離子注進(jìn)發(fā)射區(qū)代替高復(fù)雜、高本錢的厚層高阻外延,可生產(chǎn)本錢25%左右,耐壓越高本錢差越大,在性能上更具有特色,高速、低損耗、正溫度系數(shù),無鎖定效應(yīng),在設(shè)計(jì)600—1200V的IGBT時(shí),NPT—IGBT可靠性高。西門子公司可提供600V、1200V、1700V系列產(chǎn)品和6500V高壓IGBT,并推出低飽和壓降DLC型NPT—IGBT,依克賽斯、哈里斯、英特西爾、東芝等公司也相繼研制出NPT—IGBT及其模塊系列,富士電機(jī)、摩托羅拉等在研制之中,NPT型正成為IGBT發(fā)展方向。IGBT與MOSFET的對比:檢測臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨臺灣省FZ800R12KF4_S1,價(jià)格 大量現(xiàn)貨FZ800R12KF4_S1FZ800R12KF4_S1FZ800R12KF4_S1FZ800R12KF4_S1
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